La suspension de silice colloïdale a une formule à cristallisation lente, qui permet de réduire la cristallisation tout en maintenant la silice en suspension. Elle est idéale pour obtenir un polissage ultrafin, car elle a une action de polissage chimico-mécanique élevée. Elle garantit que la surface de l’échantillon reste exempte de rayures jusqu’à 0,05 micron. Cette suspension est recommandée pour le polissage final des céramiques, des minéraux, des composites et des matériaux non ferreux.

**Des frais supplémentaires sont encourus pour les produits à température contrôlée.